类Fenton技术降解新污染物：H<sub>2</sub>O<sub>2</sub>由额外投加到原位生成

doi:10.16796/j.cnki.1000-3770.2025.10.002

水处理技术 ›› 2025, Vol. 51 ›› Issue (10) : 9-17. DOI: 10.16796/j.cnki.1000-3770.2025.10.002

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类Fenton技术降解新污染物：H₂O₂由额外投加到原位生成

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Degradation of Emerging Contaminants through Fenton-like Technology: From External Addition to In-situ Generation of H₂O₂

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Received	Published
2025-05-13	2025-10-10
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2025-10-24

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